이번 턴테이블 포토그래메트리 기본 시리즈 에피소드에서는 이전 에피소드에서 얻은 지오메트리의 Low Poly 버전을 생성하겠습니다.
영상 자막 텍스트
안녕하세요, 여러분! 이번 턴테이블 포토그래메트리 기본 시리즈 에피소드에서는 이전 에피소드에서 얻은 지오메트리의 Low Poly 버전을 생성하겠습니다.
이 메시를 언랩하고 내보내기하여, Meshroom에서 High Poly 버전으로부터 베이스 컬러 텍스처를 베이킹할 수 있도록 준비하겠습니다.
먼저, 프로젝트를 Low Poly라는 이름으로 저장하여 지금까지 작업한 내용의 백업을 유지합니다.
Object Mode에서 High Poly 오브젝트를 복제하고, 이름을 Low Poly로 변경하여 원본과 동일한 위치, 방향 및 스케일 속성을 유지하는 복사본을 만듭니다. 이는 Meshroom이 Bake을 올바르게 수행하려면 두 버전이 동일한 3D 공간에 있어야 하기 때문입니다.
High Poly라는 이름의 오브젝트를 숨기고 Low Poly를 선택합니다.
Blender에서 지오메트리를 단순화하거나 디시메이트하는 방법은 여러 가지가 있습니다. 예를 들어, Decimate 모디파이어를 사용할 수 있습니다. 제 경우에는 Mode를 Collapse로 설정하고 Ratio 값을 0.05로 지정하여, 원래 100,000개의 삼각형을 4,994개로 줄이면서도 초기 지오메트리의 형태를 잘 유지할 수 있습니다.
Ratio 매개변수를 0.01로 낮추면, 삼각형 개수가 1,000개 미만이 되지만, 여전히 주요 형상을 유지할 수 있습니다.
하지만 Decimate 모디파이어는 삼각형 면과 많은 폴을 생성하게 됩니다. 이를 확인하려면 모디파이어를 적용한 후 Edit Mode로 전환하면 됩니다. 만약 해당 오브젝트가 변형되거나 애니메이션될 필요가 없다면 이 방식을 그대로 사용하여 UV 언랩을 진행할 수 있습니다. 여기서는 Decimate 적용을 취소하고 모디파이어를 제거한 후, 대체 방법을 보여드리겠습니다.
Sculpt Mode로 전환한 후 Remesh 도구를 사용하면, 사각형 면으로 이루어진 폐쇄된 지오메트리를 얻을 수 있습니다.
좋은 결과를 얻으려면 Voxel Size 매개변수를 적절히 설정해야 합니다. 이를 위해, 해당 도구의 샘플러를 사용하여 오브젝트의 한 지점을 클릭하면 해당 부분의 밀도를 분석할 수 있습니다.
제가 클릭한 지점에서 Voxel Size 값은 0.001363이었습니다. 보다 낮은 밀도의 지오메트리를 얻으려면, 이 값을 더 크게 설정해야 합니다. 처음 시도로 0.01을 입력하여 Remesh를 실행했더니, 708개의 사각형 면을 가진 지오메트리를 얻을 수 있었습니다. 첫 시도에서 운이 좋았네요.
또한, 자동 리토폴로지를 수행하여 사각형 면만 생성하는 다양한 애드온 과 확장 기능도 존재합니다. 하지만 앞서 언급했듯이, 결과물의 3D 위치가 원본과 동일한지 확인해야 합니다.
직접 Low Poly 버전을 수동으로 제작하는 경우에도 동일한 제약을 염두에 두어야 합니다. 실수를 방지하려면, 먼저 High Poly 오브젝트에서 복제한 Low Poly 오브젝트를 기반으로 시작한 후, 모든 버텍스를 병합하여 단일 메시로 만든 뒤 Snap, Shrinkwrap 등의 도구를 활용하여 새로운 지오메트리를 생성하는 방법이 있습니다. 이렇게 하면 원본 모델과 동일한 위치, 회전, 스케일 속성을 유지할 수 있습니다.
어쨌든, 이렇게 얻은 지오메트리는 꽤 만족스러운 상태입니다. Shrinkwrap 모디파이어를 사용하여 원본 모델과의 겹침을 더욱 정밀하게 조정할 수도 있습니다. 여러 가지 매핑 모드를 테스트하여 최적의 설정을 찾으면 됩니다. 또한, 필요하다면 추가 Edge Loop를 삽입할 수도 있습니다. 조정이 끝나면 Shrinkwrap 모디파이어를 적용하여 최종 형태를 완성합니다.
이제 이 파일에서 High Poly 오브젝트를 삭제할 수도 있습니다. 하지만 Low Poly 모델을 내보내기 전에, Meshroom에서 색상과 디테일을 새로운 두 개의 텍스처에 맵핑할 수 있도록 새로운 UV 언랩을 수행해야 합니다.
Edit Mode에서 XY 평면을 따라 거의 완벽하게 정렬된 엣지 루프가 있는 것을 확인할 수 있습니다. 해당 루프의 모든 버텍스를 선택하고 Seam으로 마크합니다. 사실, 하단 루프가 처음 선택한 것보다 약간 더 넓기 때문에, 오히려 더 적합할 수도 있습니다.
UV 언랩을 수행할 때, 가장 적은 왜곡을 발생시키는 방법을 선택합니다. 이 오브젝트는 구와 비슷한 형태의 단순한 구조이므로, 두 개의 반구로 나누는 방식이 UV Seam으로 적절하게 작동합니다.
EXR 이미지는 더 이상 필요하지 않습니다. 특히, Remesh 과정에서 원래 매핑이 사라졌기 때문입니다. 따라서, Shader Editor에서 제거하고, Clean Up 메뉴의 Purge Unused Data 기능을 사용하여 불필요한 데이터를 정리합니다. 이 과정에서 재질의 이름을 Low Poly로 변경합니다.
Remesh 도구는 기본적으로 폐쇄된 메시를 생성하기 때문에 노말 문제는 발생하지 않아야 하지만, 확실히 하기 위해 한 번 확인합니다.
이제 남은 작업은 이 파일을 복사하여 저장한 후, 모델을 OBJ 포맷으로 내보내기 하는 것입니다. 그런 다음, Blender를 닫고 Meshroom으로 돌아가 텍스처 베이킹을 진행하면 됩니다. 이번 에피소드는 여기까지입니다! 다음에 또 만나요!